CKD Technology heeft niet alleen gloednieuwe machines op voorraad, maar ook direct leverbaar.
We beschikken ook over een gedetailleerd verhuurbedrijf, klaar om aan uw specifieke productiebehoefte te voldoen en tegelijkertijd uw initiële investering aanzienlijk te verlagen. Neem contact met ons op voor meer informatie.
CKD beschikt over een team van professionele ingenieurs, klaar om kant-en-klare service te leveren.
Voor het inruilen van gebruikte machines kunt u contact met ons opnemen via Whatspp of e-mail.
----------------------------------------------------------------------------
De MYS10iL-serie is een volledig geautomatiseerd, in-line plasmaverwerkingssysteem dat is ontwikkeld voor toepassingen in verschillende sectoren, waaronder halfgeleiders, elektronica, SMT, opto-elektronica en medische technologie.
• Argonplasmasysteem onder atmosferische druk
• 100 mm brede inline batch-plasmaverwerking; biedt een 2 tot 5 keer hogere efficiëntie en ruim 30% lagere bedrijfskosten vergeleken met traditionele methoden
• 100% neutraal plasma; veilig en zacht voor gevoelige elektronische componenten - geen plasmabombardement, statische elektriciteit, vonken, bogen, stof, hoge temperaturen, oppervlakterimpelingen of UV-straling
• Veelzijdige chemische processen: O2-proces voor het verwijderen van organische verontreinigingen; H2-proces voor het verwijderen van metaaloxiden en het activeren van productoppervlakken
• Genereert geen deeltjes- of vloeistofverontreiniging op het product
| Basisparameters | MYS10iL |
| Stroomvereisten | Wisselstroom 200~240V, 4,5kW, 20A, 50/60Hz |
| Vereisten voor luchtdruk | 90psi (6bar) |
| Afmetingen | 1000 x 1500 x 1550 mm |
| Gewicht | 1050kg |
| Certificering | CE |
| Positioneringsnauwkeurigheid | XY: ±50 µm @ 3σ; Z: ±10 µm @ 3σ |
| Herhaalbaarheid van de XYZ-as | XY: ±25 µm @ 3σ; Z: ±5 µm @ 3σ |
| Maximale snelheid | 1000 mm/s (XY) |
| Versnelling | 1,0 g |
| Aandrijfsysteem | AC-servo |
| Werkplatformparameters | |
| Transportbandtype | Riem |
| Draagvermogen transportband | 3 kg |
| PCB-diktebereik (zonder drager) | 0,5–6 mm |
| Z-as reizen | 60 mm |
| Max. Componenthoogte (bovenkant) | 45 mm |
| Max. Componenthoogte (onderkant) | 23 mm |
| Communicatieprotocol | SMEMA |
| Werkbereik | |
| Plasmabehandelingsgebied (B×D) | 550–760 mm |
| Watercontacthoek (WCA) na plasmabehandeling | WCA < 10° (siliciumwafel) WCA < 20° (niet-metalen materialen) |
| Plasmabehandelingsmethode | O2-proces voor het verwijderen van organische verontreinigingen H2-proces voor het verwijderen van metaaloxide |
| Vereisten voor plasmasysteemapparatuur | |
| RF-vermogen | 600 W bij 27,12 MHz |
| Belangrijkste plasmagas | Argon |
| Procesgas | O2, N2 of H2 |
| Gastoevoerdrukbereik | 40–100 psi (0,3–0,7 MPa) |
Adres
5e verdieping, gebouw 2, nr. 182, Chang'an Xi'an Road, Chang'an Town, Dongguan, provincie Guangdong, China.
Tel
E-mailen
