CKD Technology heeft niet alleen gloednieuwe machines op voorraad, maar ook direct leverbaar.
We beschikken ook over een gedetailleerd verhuurbedrijf, klaar om aan uw specifieke productiebehoefte te voldoen en tegelijkertijd uw initiële investering aanzienlijk te verlagen. Neem contact met ons op voor meer informatie.
CKD beschikt over een team van professionele ingenieurs, klaar om kant-en-klare service te leveren.
Voor het inruilen van gebruikte machines kunt u contact met ons opnemen via Whatspp of e-mail.
----------------------------------------------------------------------------
De MYS10-serie is een volledig geautomatiseerd, in-line plasmaverwerkingssysteem ontwikkeld voor toepassingen in sectoren als halfgeleiders, elektronica, SMT, opto-elektronica en medische technologie.
• Argonplasmasysteem onder atmosferische druk
• 100 mm brede in-line batch-plasmaverwerking; biedt een 2 tot 5 keer hogere efficiëntie en ruim 30% lagere bedrijfskosten vergeleken met traditionele methoden
• 100% neutraal plasma; veilig en zacht voor gevoelige elektronische componenten - genereert geen plasmabombardementen, statische elektriciteit, vonken, bogen, stof, hoge temperaturen, oppervlakterimpelingen of UV-straling, waardoor er geen schade aan producten ontstaat
• Compact plasmaplatform dat hoge flexibiliteit en compatibiliteit biedt
• Veelzijdige chemische processen: O2-proces voor het verwijderen van organische verontreinigingen; H2-proces voor het verwijderen van metaaloxiden en het activeren van productoppervlakken
• Geen vorming van deeltjesvormige of vloeibare verontreinigingen
| Basisspecificaties | MYS10 |
| Stroomvereisten | Wisselstroom 200–240 V, 4,4 kW, 20 A, 50/60 Hz |
| Vereisten voor luchtdruk | 90 psi (6 bar) |
| Afmetingen | 790 x 1200 x 1880 mm |
| Gewicht | 800kg |
| Certificeringsnormen | CE, SEMI-S2 |
| Positioneringsnauwkeurigheid | XY: ±30 µm @ 3σ; Z: ±10 µm @ 3σ |
| Herhaalbaarheid van de XYZ-as | XY: ±15 µm @ 3σ; Z: ±5 µm @ 3σ |
| Maximale snelheid | 1000 mm/s (XY) |
| Versnelling | 1,0 g |
| Aandrijfsysteem | AC-servo |
| Specificaties werkplatform | |
| Tracktype | Riem |
| Draagvermogen spoor | 3 kg |
| Substraatdiktebereik (zonder drager) | 0,5–6 mm |
| Z-as verplaatsing | 100 mm |
| Max. componenthoogte (bovenzijde) | 26 mm |
| Max. componenthoogte (onderkant) | 23 mm |
| Communicatieprotocol | SMEMA |
| Werkbereik | |
| Plasmabehandelingsgebied (B×D) | 350–475 mm |
| Watercontacthoek (WCA) na plasmabehandeling | WCA < 10° (siliciumwafel) WCA < 20° (niet-metaalachtig) |
| Plasmabehandelingsmethode | O2-proces voor het verwijderen van organische verontreinigingen H2-proces voor het verwijderen van metaaloxide |
| Systeemvereisten voor plasma | |
| RF-vermogen | 600 W bij 27,12 MHz |
| Belangrijkste plasmagas | Argon |
| Procesgas | O2, N2 of H2 |
| Gastoevoerdrukbereik | 40–100 psi (0,3–0,7 MPa) |
Adres
5e verdieping, gebouw 2, nr. 182, Chang'an Xi'an Road, Chang'an Town, Dongguan, provincie Guangdong, China.
Tel
E-mailen
