Gemakkelijk om te gaan met oppervlaktebehandeling voor gevoelige componenten
- Argonplasma geschikt voor contact
- Genereert geen vonken, bogen, stof, UV-straling of overmatige hitte
- Geen risico op elektrostatische ontlading (ESD) voor gevoelige elektronische componenten (bijv. wafers, leadframes, halfgeleiderverpakkingsonderdelen)
| Basisparameters | MYS Platform voor plasma-oppervlaktebehandelingssysteem |
| Stroomvereisten | 220 V, 2 kW, 10 A, 60 Hz |
| Gasvereisten | 90 psi (6 bar) |
| Afmetingen (B x D x H) | 1.200 x 770 x 1.400 mm |
| Gewicht | 650 kg |
| Certificering | CE |
| Positioneringsnauwkeurigheid | XY: ±30 µm @ 3σ; Z: ±10 µm @ 3σ |
| Herhaalbaarheid van de X-, Y- en Z-as | XY: ±15 µm @ 3σ Z: ±5 µm @ 3σ |
| Maximale snelheid | 1.000 mm/s (X, Y) |
| Versnelling | 1,0 gram |
| Cameraresolutie | 640 x 480 pixels (0,3 MP) |
| Aandrijfsysteem | AC-servo |
| Transportband type | Riem |
| Draagvermogen transportband | 3 kg |
| Minimale productbreedte | 50 mm |
| Maximale productbreedte | 475 mm |
| Minimale productlengte | 50 mm |
| Maximale productlengte | 350 mm |
| Software-besturingssysteem | Windows 7 |
| Productdiktebereik | 0,5–6 mm |
| Communicatieprotocol | SMEMA |
| Plasmabehandelingsgebied (D x B) | 475 x 350 mm |
|
|
|
| Basisspecificaties | Systeemvereisten voor plasma |
| RF-vermogen | 600 W bij 27,12 MHz |
| Primair plasmagas | Argon |
| Procesgas | O2, N2 of H2 (andere moeten worden getest) |
| Gastoevoerdrukbereik | 30–100 psig (0,2–0,7 MPa) |
Adres
5e verdieping, gebouw 2, nr. 182, Chang'an Xi'an Road, Chang'an Town, Dongguan, provincie Guangdong, China.
Tel
